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1 • Électrons, ions et plasmas
La nature de la structure de couplage de l’énergie constitue, enfin, un autre élément
d’élaboration d’une classification, par exemple, pour les réacteurs RF, qui sont les
plus courant dans les chaînes de fabrication des industries microélectroniques :
• les structures de couplage capacitives constituées de deux plaques polarisées permettent de générer des plasmas pour le dépôt et la gravure, viennent ensuite,
• les structures de couplage inductives permettent un transfert de puissance au
plasma plus efficace et qui se substitue progressivement au réacteur capacitif dans
de nombreuse applications ;
• enfin, les structures radiatives, de type antenne dans les réacteurs dits hélicon ou
de type guide ouvert dans les réacteurs dits ECR, génèrent des modes propagatifs
du plasma alors que les structures capacitives et inductives opèrent sur des modes
évanescents.
Les réacteurs radiofréquence, malgré l’apparente simplicité de leur structure, sont
des objets au comportement complexe qui présentent une grande diversité de régimes
de fonctionnement et sont sujet à de nombreuses instabilités.
A
P
C
R
Figure 1.7 Réacteur radiofréquence capacitif du Laboratoire de Physique et Technologie
des Plasmas de l’École Polytechnique.
La figure 1.7 présente la vue extérieure d’un réacteur capacitif en opération où un
champ électromagnétique RF (13,56 MHz) entretient le plasma (P). Le système complet est composé de quatre éléments : le système de pompage et de contrôle des
gaz neutres (C), le générateur RF et le système d’adaptation d’impédance (A), l’ensemble des diagnostics de la phase plasma et de la phase neutre et enfin la structure
de couplage et la chambre à plasma (R). À basse pression, au voisinage de quelques
© Dunod – La photocopie non autorisée est un délit
1 • Électrons, ions et plasmas
La nature de la structure de couplage de l’énergie constitue, enfin, un autre élément
d’élaboration d’une classification, par exemple, pour les réacteurs RF, qui sont les
plus courant dans les chaînes de fabrication des industries microélectroniques :
• les structures de couplage capacitives constituées de deux plaques polarisées permettent de générer des plasmas pour le dépôt et la gravure, viennent ensuite,
• les structures de couplage inductives permettent un transfert de puissance au
plasma plus efficace et qui se substitue progressivement au réacteur capacitif dans
de nombreuse applications ;
• enfin, les structures radiatives, de type antenne dans les réacteurs dits hélicon ou
de type guide ouvert dans les réacteurs dits ECR, génèrent des modes propagatifs
du plasma alors que les structures capacitives et inductives opèrent sur des modes
évanescents.
Les réacteurs radiofréquence, malgré l’apparente simplicité de leur structure, sont
des objets au comportement complexe qui présentent une grande diversité de régimes
de fonctionnement et sont sujet à de nombreuses instabilités.
A
P
C
R
Figure 1.7 Réacteur radiofréquence capacitif du Laboratoire de Physique et Technologie
des Plasmas de l’École Polytechnique.
La figure 1.7 présente la vue extérieure d’un réacteur capacitif en opération où un
champ électromagnétique RF (13,56 MHz) entretient le plasma (P). Le système complet est composé de quatre éléments : le système de pompage et de contrôle des
gaz neutres (C), le générateur RF et le système d’adaptation d’impédance (A), l’ensemble des diagnostics de la phase plasma et de la phase neutre et enfin la structure
de couplage et la chambre à plasma (R). À basse pression, au voisinage de quelques
© Dunod – La photocopie non autorisée est un délit