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Analyse et technologie des surfaces
Pour le rapport signal/bruit (S/B), la spectrométrie des photoélectrons est nettement
favorisée par rapport à celle des électrons Auger discuté au chapitre suivant. La précision de l’analyse quantitative absolue est limitée par les effets de matrice et les
effets de surface, en particulier la contamination par adsorption de gaz et le charging.
Cependant, l’utilisation de standards ou une comparaison entre deux échantillons de
composition proche permet d’obtenir une précision d’environ 5%.
Ses principales applications portent sur les analyses quantitatives et sur la
détermination des liaisons chimiques (états d’oxydation) en surface. Son champ
d’application s’étend à tous les domaines des matériaux (isolants et conducteurs), la
métallurgie, la physico-chimie, l’électrochimie, la chimie des polymères, biomatériaux, céramiques, les catalyseurs et l’électronique.
3.8 BIBLIOGRAPHIE
Générale
J.P. EBERHART, Analyse structurale et chimique des matériaux, Dunod, Paris, 2 e éd., 1989.
D. DAVID et R. CAPLAIN, Méthodes usuelles de caractérisation des surfaces. vol. ch. 7, Eyrolles,
Paris, 1988.
D. BRIGGS et M.P. SEAH, eds. Practical Surface Analysis – Auger and X – ray Photoelectron Spectroscopy Chichester, vol. 1, John Wiley&Sons, 1990.
B.D. RATNER et D.G. CASTNER, Electron Spectroscopy for Chemical Analysis, in Surface Analysis –
The Principal Techniques, J.C. Vickerman, Editor, John Wiley & Sons, Chichester, p. 43, 1997.
Références
[3.1] SIEGBAHN K. et al., ESCA, Atomic, Molecular, and Solid State Structure Studied by Means of
Electron Spectroscopy, Uppsala, Almquist and Wiksells, 1967.
[3.2] SHIRLEY D.A., High-resolution XPS of the valence bands of gold, Phys. Rev., B 5, p. 4709,
1972.
[3.3] SHERWOOD P.M.A., Data Analysis in XPS and AES, in Practical surface analysis Vol. I –
Auger and X-ray photoelectron analysis, D. Briggs and M.P. Seah, Editors, John Wiley &
Sons, Chichester, pp. 555-586, 1990.
[3.4] WAGNER C.D., Chemical shifts of Auger lines and the Auger parameter, Faraday Soc. Disc.,
60, p. 291, 1975.
[3.5] PALACIO C., H.J. MATHIEU et D. LANDOLT, Oxidation of Fe-24C % Cr-11%Mo at room temperature and low oxygen pressure, Surface Sci., 214, p. 493, 1989.
[3.6] SEAH M.P. et W.A. DENCH, Quantitative Electron Spectroscopy of Surfaces: A standard Data
Base for Electron Inelastic Mean Free Paths in Solids, Surface and Interface Analysis, 1(1),
pp. 2-11, 1979.
[3.7] POWELL C.J., The quest for universal curves to describe the surface sensitivity of electron
spectroscopies, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom., 47, pp. 197-214, 1988.
[3.8] TANUMA S., C.J. POWELL et D.R. PENN, Material dependance of electron inelastic mean free
paths at low energies, J. Vac. Sci. Techn. A, 8, p. 2213, 1990.
Analyse et technologie des surfaces
Pour le rapport signal/bruit (S/B), la spectrométrie des photoélectrons est nettement
favorisée par rapport à celle des électrons Auger discuté au chapitre suivant. La précision de l’analyse quantitative absolue est limitée par les effets de matrice et les
effets de surface, en particulier la contamination par adsorption de gaz et le charging.
Cependant, l’utilisation de standards ou une comparaison entre deux échantillons de
composition proche permet d’obtenir une précision d’environ 5%.
Ses principales applications portent sur les analyses quantitatives et sur la
détermination des liaisons chimiques (états d’oxydation) en surface. Son champ
d’application s’étend à tous les domaines des matériaux (isolants et conducteurs), la
métallurgie, la physico-chimie, l’électrochimie, la chimie des polymères, biomatériaux, céramiques, les catalyseurs et l’électronique.
3.8 BIBLIOGRAPHIE
Générale
J.P. EBERHART, Analyse structurale et chimique des matériaux, Dunod, Paris, 2 e éd., 1989.
D. DAVID et R. CAPLAIN, Méthodes usuelles de caractérisation des surfaces. vol. ch. 7, Eyrolles,
Paris, 1988.
D. BRIGGS et M.P. SEAH, eds. Practical Surface Analysis – Auger and X – ray Photoelectron Spectroscopy Chichester, vol. 1, John Wiley&Sons, 1990.
B.D. RATNER et D.G. CASTNER, Electron Spectroscopy for Chemical Analysis, in Surface Analysis –
The Principal Techniques, J.C. Vickerman, Editor, John Wiley & Sons, Chichester, p. 43, 1997.
Références
[3.1] SIEGBAHN K. et al., ESCA, Atomic, Molecular, and Solid State Structure Studied by Means of
Electron Spectroscopy, Uppsala, Almquist and Wiksells, 1967.
[3.2] SHIRLEY D.A., High-resolution XPS of the valence bands of gold, Phys. Rev., B 5, p. 4709,
1972.
[3.3] SHERWOOD P.M.A., Data Analysis in XPS and AES, in Practical surface analysis Vol. I –
Auger and X-ray photoelectron analysis, D. Briggs and M.P. Seah, Editors, John Wiley &
Sons, Chichester, pp. 555-586, 1990.
[3.4] WAGNER C.D., Chemical shifts of Auger lines and the Auger parameter, Faraday Soc. Disc.,
60, p. 291, 1975.
[3.5] PALACIO C., H.J. MATHIEU et D. LANDOLT, Oxidation of Fe-24C % Cr-11%Mo at room temperature and low oxygen pressure, Surface Sci., 214, p. 493, 1989.
[3.6] SEAH M.P. et W.A. DENCH, Quantitative Electron Spectroscopy of Surfaces: A standard Data
Base for Electron Inelastic Mean Free Paths in Solids, Surface and Interface Analysis, 1(1),
pp. 2-11, 1979.
[3.7] POWELL C.J., The quest for universal curves to describe the surface sensitivity of electron
spectroscopies, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom., 47, pp. 197-214, 1988.
[3.8] TANUMA S., C.J. POWELL et D.R. PENN, Material dependance of electron inelastic mean free
paths at low energies, J. Vac. Sci. Techn. A, 8, p. 2213, 1990.