Revêtements à partir d’une phase gazeuse (PVD/CVD)
277
Quelle serait l’incidence sur la morphologie d’un revêtement, si le coefficient
d’adhésion du réactant évaporé était d’un ordre de grandeur plus important sur le
revêtement que sur le substrat?
Quelle est la relation entre le coefficient d’adhésion et le paramètre κ défini dans la
section 15.1?
Calculer le pourcentage de réaction homogène pour les hypothèses suivantes:
• taux de réaction de la réaction homogène: 1, 0,1, 0,01,
• taux d’adhésion à la surface: 1, 0,3, 0,1,
• gaz idéal,
• distance source-substrat: 100 mm,
• pression partielle de l’oxygène: 0,01 Pa, 0,1 Pa, 1 Pa, 100 Pa,
• matière évaporée: silicium.
Tracer la courbe de ce taux en fonction de la pression et déterminer la pression partielle à partir de laquelle le taux dépassera 50%.
15.11.19 L’énergie d’adsorption de l’oxygène sur le SiO 2 est de 7 kcal/Mol. Calculer la couverture de la surface pour une isotherme Langmuir aux pressions partielles
de l’exercice précédent.
15.11.20 Calculer la pression partielle d’oxygène nécessaire pour un dépôt stœchiométrique de SiO 2 avec les hypothèses suivantes:
• taux d’adhésion du silicium sur Si et SiO 2 : 1,
• isotherme Langmuir pour l’adsorption de l’oxygène.
(taux de réaction de la réaction hétérogène: 1.)
15.11.21 Une décharge arc développe 4 kW dans sa nervure. Calculer la quantité
d’hydrogène dissocié en moles/sec en négligeant la radiation et l’ionisation.
15.11.22 Prendre une longueur de l’arc de 400 mm. Quel est le flux d’hydrogène
atomique qui tombe sur une surface cylindrique à 700 mm de distance?
15.11.23 En prenant une relation de dépôt sp 2 /dépôt sp 3 de 10, quelle est la pression partielle de méthane maximale admissible, si on prend l’hypothèse d’un rendement de pyrolyse hétérogène de 0,4?
15.11.24 Calculer la vitesse de dépôt diamant aux conditions ci-dessus.
15.11.25 Spécifier un stand de pompage pour une installation de pulvérisation
cathodique.
15.11.26 Une installation de CVD atmosphérique a-t-elle besoin d’une unité de
pompage?
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Quelle serait l’incidence sur la morphologie d’un revêtement, si le coefficient
d’adhésion du réactant évaporé était d’un ordre de grandeur plus important sur le
revêtement que sur le substrat?
Quelle est la relation entre le coefficient d’adhésion et le paramètre κ défini dans la
section 15.1?
Calculer le pourcentage de réaction homogène pour les hypothèses suivantes:
• taux de réaction de la réaction homogène: 1, 0,1, 0,01,
• taux d’adhésion à la surface: 1, 0,3, 0,1,
• gaz idéal,
• distance source-substrat: 100 mm,
• pression partielle de l’oxygène: 0,01 Pa, 0,1 Pa, 1 Pa, 100 Pa,
• matière évaporée: silicium.
Tracer la courbe de ce taux en fonction de la pression et déterminer la pression partielle à partir de laquelle le taux dépassera 50%.
15.11.19 L’énergie d’adsorption de l’oxygène sur le SiO 2 est de 7 kcal/Mol. Calculer la couverture de la surface pour une isotherme Langmuir aux pressions partielles
de l’exercice précédent.
15.11.20 Calculer la pression partielle d’oxygène nécessaire pour un dépôt stœchiométrique de SiO 2 avec les hypothèses suivantes:
• taux d’adhésion du silicium sur Si et SiO 2 : 1,
• isotherme Langmuir pour l’adsorption de l’oxygène.
(taux de réaction de la réaction hétérogène: 1.)
15.11.21 Une décharge arc développe 4 kW dans sa nervure. Calculer la quantité
d’hydrogène dissocié en moles/sec en négligeant la radiation et l’ionisation.
15.11.22 Prendre une longueur de l’arc de 400 mm. Quel est le flux d’hydrogène
atomique qui tombe sur une surface cylindrique à 700 mm de distance?
15.11.23 En prenant une relation de dépôt sp 2 /dépôt sp 3 de 10, quelle est la pression partielle de méthane maximale admissible, si on prend l’hypothèse d’un rendement de pyrolyse hétérogène de 0,4?
15.11.24 Calculer la vitesse de dépôt diamant aux conditions ci-dessus.
15.11.25 Spécifier un stand de pompage pour une installation de pulvérisation
cathodique.
15.11.26 Une installation de CVD atmosphérique a-t-elle besoin d’une unité de
pompage?