193 A. Labande, D. Astruc, Chem.
Commun., 2000, 1007.
194 (a) L. B. Israel, N. N. Kariuki, L.
Han et al., J. Electroanal. Chem., 2001,
517, 69. (b) W. Zheng, M. M. Maye,
F. L. Leibowitz et al., Anal. Chem.,
2000, 72, 2190.
195 C.-Y. Chiou, T.-C. Chou, Electroanalysis, 1996, 8, 1179.
196 H. Li, Q. Wang. J. Xu et al., Sens.
Actuators B, 2002, 87, 18.
197 H. Li, J. Wen, Q. Cai et al., Analyst,
2001, 126, 1747.
198 G. Shi, M. Luo, J. Xue et al., Fresnius’
J. Anal. Chem., 2001, 370, 878.
199 (a) J. O. M. Bockris, S. U. M. Khan,
Surface Electrochemistry, Plenum Press,
New York 1993; (b) A. M. Feltham,
M. Spiro, Chem. Rev., 1971, 71, 177;
(c) K. Kinoshita, in Modern Aspects of
Electrochemistry, Vol. 14, eds. J. O. M.
Bockris, B. E. Conway, R. E. White,
Plenum Press, New York 1982, p. 557;
(d) J. V. Zoval, J. Lee, S. Gorer et al.,
J. Phys. Chem. B, 1998, 102, 1166.
200 Y. Gimeno, A. H. Creus, S.
Gonzalez et al., Chem. Mater., 2001,
13, 1857.
201 (a) O. Antoine, Y. Bultel, R.
Durand, J. Electroanal. Chem., 2001,
499, 85; (b) D. Supriya, S. Sampath,
in preparation.
202 S. N. Pron’Kin, O. A. Petrii, G. A.
Tsirlina et al., J. Electroanal. Chem.,
2000, 480, 112.
203 S. N. Pron’Kin, A. G. Tsirlina, O. A.
Petrii, S. Y. Vassiliev, Electrochim.
Acta, 2001, 46, 2343.
204 J.-E. Park, O. Hatozaki, N. Oyama,
Chem. Lett., 2003, 32, 138.
205 M. S. El-Deab, T. Ohsaka,
Electrochim. Acta, 2002, 47, 4255.
206 (a) S. Wasmus, A. Kuever, J.
Electroanal. Chem., 1999, 461, 14; (b)
T. D. Jarvi, S. Sriramlu, E. M.
Stuve, J. Phys. Chem. B, 1998, 101,
3649.
207 Y. Lou, M. M. Maye, L. Han et al.,
Chem. Commun., 2001, 473.
208 F. L. Leibowitz, W. X. Zheng, M. M.
Maye et al., Anal. Chem., 1999, 71,
5076.
209 M. M. Maye, Y. Lou, C.-J. Zhong,
Langmuir, 2000, 16, 7520.
210 J. Prabhuram, R. Manoharan, J.
Appl. Electrochem., 1998, 28, 935.
211 J. S. Gullon, V. Montlel, A. Aldaz
et al., Electrochem. Commun., 2002, 4,
716.
212 T. N. Rao, A. Fujishima, Diamond
Relat. Mater., 2000, 9, 384.
213 G. M. Swain, J. Electrochem. Soc.,
1994, 141, 3382.
214 K. Honda, M. Yoshimura, T. N. Rao
et al., J. Electroanal. Chem., 2001, 514,
35.
215 S. Park, Y. Xie, M. J. Weaver,
Langmuir, 2002, 18, 5792.
216 G. Che, B. B. Lakshmi, C. R. Martin
et al., Langmuir, 1999, 15, 750.
217 S. H. Joo, S. J. Chol, I. Oh et al.,
Nature, 2001, 412, 169.
218 (a) K. Guo, Q. Pan, L. Wang et al., J.
Appl. Electrochem., 2002, 32, 679; (b)
H. Li, Q. Wang, L. Shi et al., Chem.
Mater., 2002, 14, 103; (c) H. Li, L. Shi,
W. Lu et al., J. Electrochem. Soc., 2001,
148, 915; (d) H. Li, G. Zhu, X.
Huang et al., J. Mater. Chem., 2000,
10, 693.
219 (a) J. M. Miller, B. Dunn, T. D.
Tran et al., J. Electrochem. Soc., 1997,
144, L309; (b) J. M. Miller, B. Dunn,
Langmuir, 1999, 15, 799.
References 687
Commun., 2000, 1007.
194 (a) L. B. Israel, N. N. Kariuki, L.
Han et al., J. Electroanal. Chem., 2001,
517, 69. (b) W. Zheng, M. M. Maye,
F. L. Leibowitz et al., Anal. Chem.,
2000, 72, 2190.
195 C.-Y. Chiou, T.-C. Chou, Electroanalysis, 1996, 8, 1179.
196 H. Li, Q. Wang. J. Xu et al., Sens.
Actuators B, 2002, 87, 18.
197 H. Li, J. Wen, Q. Cai et al., Analyst,
2001, 126, 1747.
198 G. Shi, M. Luo, J. Xue et al., Fresnius’
J. Anal. Chem., 2001, 370, 878.
199 (a) J. O. M. Bockris, S. U. M. Khan,
Surface Electrochemistry, Plenum Press,
New York 1993; (b) A. M. Feltham,
M. Spiro, Chem. Rev., 1971, 71, 177;
(c) K. Kinoshita, in Modern Aspects of
Electrochemistry, Vol. 14, eds. J. O. M.
Bockris, B. E. Conway, R. E. White,
Plenum Press, New York 1982, p. 557;
(d) J. V. Zoval, J. Lee, S. Gorer et al.,
J. Phys. Chem. B, 1998, 102, 1166.
200 Y. Gimeno, A. H. Creus, S.
Gonzalez et al., Chem. Mater., 2001,
13, 1857.
201 (a) O. Antoine, Y. Bultel, R.
Durand, J. Electroanal. Chem., 2001,
499, 85; (b) D. Supriya, S. Sampath,
in preparation.
202 S. N. Pron’Kin, O. A. Petrii, G. A.
Tsirlina et al., J. Electroanal. Chem.,
2000, 480, 112.
203 S. N. Pron’Kin, A. G. Tsirlina, O. A.
Petrii, S. Y. Vassiliev, Electrochim.
Acta, 2001, 46, 2343.
204 J.-E. Park, O. Hatozaki, N. Oyama,
Chem. Lett., 2003, 32, 138.
205 M. S. El-Deab, T. Ohsaka,
Electrochim. Acta, 2002, 47, 4255.
206 (a) S. Wasmus, A. Kuever, J.
Electroanal. Chem., 1999, 461, 14; (b)
T. D. Jarvi, S. Sriramlu, E. M.
Stuve, J. Phys. Chem. B, 1998, 101,
3649.
207 Y. Lou, M. M. Maye, L. Han et al.,
Chem. Commun., 2001, 473.
208 F. L. Leibowitz, W. X. Zheng, M. M.
Maye et al., Anal. Chem., 1999, 71,
5076.
209 M. M. Maye, Y. Lou, C.-J. Zhong,
Langmuir, 2000, 16, 7520.
210 J. Prabhuram, R. Manoharan, J.
Appl. Electrochem., 1998, 28, 935.
211 J. S. Gullon, V. Montlel, A. Aldaz
et al., Electrochem. Commun., 2002, 4,
716.
212 T. N. Rao, A. Fujishima, Diamond
Relat. Mater., 2000, 9, 384.
213 G. M. Swain, J. Electrochem. Soc.,
1994, 141, 3382.
214 K. Honda, M. Yoshimura, T. N. Rao
et al., J. Electroanal. Chem., 2001, 514,
35.
215 S. Park, Y. Xie, M. J. Weaver,
Langmuir, 2002, 18, 5792.
216 G. Che, B. B. Lakshmi, C. R. Martin
et al., Langmuir, 1999, 15, 750.
217 S. H. Joo, S. J. Chol, I. Oh et al.,
Nature, 2001, 412, 169.
218 (a) K. Guo, Q. Pan, L. Wang et al., J.
Appl. Electrochem., 2002, 32, 679; (b)
H. Li, Q. Wang, L. Shi et al., Chem.
Mater., 2002, 14, 103; (c) H. Li, L. Shi,
W. Lu et al., J. Electrochem. Soc., 2001,
148, 915; (d) H. Li, G. Zhu, X.
Huang et al., J. Mater. Chem., 2000,
10, 693.
219 (a) J. M. Miller, B. Dunn, T. D.
Tran et al., J. Electrochem. Soc., 1997,
144, L309; (b) J. M. Miller, B. Dunn,
Langmuir, 1999, 15, 799.
References 687