76
Analyse et technologie des surfaces
10 –4
10 –6
10 –8
10 –10
10 –12
10 –3
1
1 0 +3
10 4
10 2
10 0
10 –2
10 –4
d = 1 cm
d = 1 µm
d = 1 mm
d = 100 µm
d = 10 µm
10 –9
10 –6
10 –3
i p [A/cm 2 ]
I
p [A]
sensibilité de détection (ppm d’une monocouche)
couche atomique décapée /s
Fig. 5.3 Interdépendance entre le courant primaire I p , la densité de courant primaire i p , la sensibilité
de détection, le diamètre du spot d’analyse d et le taux de décapage pendant l’analyse. La zone du
SSIMS est hachurée avec une vitesse de décapage inférieure à 0,1 % d’une monocouche décapée /s.
(1 monocouche correspond à environ 10 15 ions/cm 2 ).
Fig. 5.4 Schéma de principe d’un instrument SIMS.
source
ions
primaires
ions
secondaires
échantillon
spectromètre
de masse
détecteur
spectre
de masse
profil
image
Analyse et technologie des surfaces
10 –4
10 –6
10 –8
10 –10
10 –12
10 –3
1
1 0 +3
10 4
10 2
10 0
10 –2
10 –4
d = 1 cm
d = 1 µm
d = 1 mm
d = 100 µm
d = 10 µm
10 –9
10 –6
10 –3
i p [A/cm 2 ]
I
p [A]
sensibilité de détection (ppm d’une monocouche)
couche atomique décapée /s
Fig. 5.3 Interdépendance entre le courant primaire I p , la densité de courant primaire i p , la sensibilité
de détection, le diamètre du spot d’analyse d et le taux de décapage pendant l’analyse. La zone du
SSIMS est hachurée avec une vitesse de décapage inférieure à 0,1 % d’une monocouche décapée /s.
(1 monocouche correspond à environ 10 15 ions/cm 2 ).
Fig. 5.4 Schéma de principe d’un instrument SIMS.
source
ions
primaires
ions
secondaires
échantillon
spectromètre
de masse
détecteur
spectre
de masse
profil
image
