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Analyse et technologie des surfaces
(16.39)
avec
: flux d’ions de métal M avec une charge d’ionisation de z i .
: flux d’ions de gaz avec une charge d’ionisation de z i .
: flux d’atomes de métal N avec une masse m j .
En introduisant les degrés d’ionisation de chaque espèce dans le plasma, on
obtient:
(16.40)
et les pressions partielles
(16.41)
on trouve
(16.42)
Aux températures de substrat utilisées normalement dans les dépositions, on
peut négliger l’émission thermoionique des substrats et écrire
(16.43)
où γ i est le coefficient d’émission secondaire pour le nombre d’électrons émis par
ion i, qui frappe la surface.
On peut donc définir et calculer les «ratios» suivants:
(16.44)
η FA étant le rendement faradaique apparent,
(16.45)
où η FV est le rendement faradaique véritable, ainsi que la charge totale déposée
(16.46)
Q mat
m i Q i
m
m j Q j
m
j
∑
+
i
∑
=
Q i
M
Q i
G
Q j
M
χ i
z
c i
z
c i
---- -
=
p i
RT
V
------- -ν i
RTM
V
-------------c i
=
=
I
Ae
V
M
---- -
z i
3
RTM i
-------------- -χ i
z p i
z j
3
RTM
-------------χ j
z p j
j
∑
+
i
∑



 I thermionique I émission secondaire
–
–
=
I
eAV
M
----------3
RT
------- -
z i γ i
–
(
)χ i
z M i
1 2
/
–
p i
z j γ j
–
(
)χ j
z M j
1 2
/
–
p j
j
∑
+
i
∑




=
η FA
Q mat
I
---------- -
=
η FV
Q i
m
i
∑
I
--------------- -
=
Q
I t
d
temps de déposition
∫
=