Revêtements à partir d’une phase gazeuse (PVD/CVD)
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Le diagramme de Movchan-Demchichin néglige l’apport d’énergie par
l’atome condensant. Cette approximation est valable pour l’évaporation. Pour la
pulvérisation cathodique, cet apport d’énergie n’est plus négligeable, puisque les
atomes de la source sont éjectés avec une énergie pouvant atteindre une centaine
d’électronvolts. Leur énergie à l’arrivée dépendra du degré de thermalisation qu’ils
auront subi pendant le transport; s’agissant de flux moléculaire, le paramètre caractéristique sera le libre parcours moyen, (éq. (15.25)). John Thornton a intégré la
pression dans un diagramme tri-dimensionnel de la structure en fonction de la température du substrat et de la pression, qui est valable pour la pulvérisation cathodique non réactive et qui porte son nom (fig. 15.9).
La figure 15.10 donne un exemple d’un dépôt de la zone 1.
zone 1
zone T
zone 2
zone 3
30
20
10
1
0,1
0,2
0,3
0,4
0,5
0,6
0,7
0,8
0,9
1,0
Fig. 15.9 Diagramme de Thornton.
P [mTorr]
T/T m
Fig. 15.10 Dépôt PVD avec une morphologie correspondant à la zone 1.