Chapitre III : Matériels et méthodes
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Figure 31 : Déroulement de l’analyse des échantillons par ICP-MS (Bettmer et al., 2009).
III.7.2 Détermination des concentrations métalliques des échantillons
Comme pour toute technique analytique, les performances de l’appareil doivent faire l’objet de
contrôles quotidiens, lors de la mise en marche de l’appareil et en cours d’analyse. Ces contrôles
ont pour principal but l’optimisation du signal. Avant d’effectuer ces réglages et après avoir
allumé le plasma, il est impératif d’attendre au moins une demi-heure, temps nécessaire à la
stabilisation du plasma. L’optimisation du signal est en effet principalement liée aux paramètres
de fonctionnement du plasma :
-puissance du générateur haute fréquence, classiquement comprise entre 1,2 et 1,4 kW,
- distance spire-interface et positionnement de la torche dans la bobine d’induction, surtout si
la torche a été démontée pour un entretien,
- tension de l’optique ionique qui influe énormément sur la réponse de l’analyte ; pour les
masses faibles (Be ou Mg) l’optimum se situe à une tension faible (4-6 V) ; il se décale vers les
tensions élevées quand le rapport m/z augmente (8-11 V pour In ou Pb) ;
- vitesse et quantité d’aérosol liées au débit de l’échantillon et au débit des gaz vecteurs ; ce
paramètre critique rend indispensable l’utilisation en ICP-MS de débitmètres massiques. Ces
paramètres sont classiquement vérifiés à l’aide de solutions multi-élémentaires et en utilisant
les procédures d’optimisation quotidiennes ou complètes intégrées aux logiciels d’exploitation
des appareils (Moesch, 2007).