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A. CORNET et J.-P. DEVILLE
2. I .4. Melanges ioniques
La figure 6.6 montre quelques variantes de l’implantation ionique.
Quelle que soit sa nature, la technique utilise des ions comme projectiles
pour << pousser >> par recul des atomes d’un élément déposé sur la surface du
matériau à traiter :
des ions lourds et neutres (gaz rares : Ar, Ne, Xe) d’énergie comprise entre 1,6
et 3,2 x
J (100 à 200 keV) afin de favoriser l’interaction nucléaire (brassage efficace) ;
des ions de gaz réactifs (N2 sur Ti pour former un nitrure de titane).
Implantation classique
Faisceau d’ions
Alliage
Mélange ionique (implantation par recul)
Ions de gaz rare Ar+, Ni
Prédépôt
A,liage
““i=
Mélange interfacial
Ions de gaz rare Ar+, N+
Prédépôt
J
h
Melange dynamique
Ions de aaz rare Ar+. N+
Dépôt pendant l’implantation
Alliage
Fig. 6.6. Mélanges ioniques.