106 W. Chen, W. P. Cai, C. H. Liang et
al., Mater. Res. Bull., 2001, 36, 335.
107 W. Chen, W. P. Cai, L. Zhang et al.,
J. Colloid Interface Sci., 2001, 238, 291.
108 W. Chen, W. P. Cai, Z. X. Chen et
al., Ultrason. Sonochem., 2001, 8, 335.
109 W. Chen, W. P. Cai, Y. Lei et al.,
Mater. Lett., 2001, 50, 53.
110 J. C. Yu, L. Z. Zhang, J. G. Yu, New
J. Chem., 2002, 26, 416.
111 J. C. Yu, L. Z. Zhang, J. G. Yu, Chem.
Mater., 2002, 14, 4647.
112 D. N. Srivastava, S. Chappel, O.
Palchik et al., Langmuir, 2002, 18, 4160.
113 D. N. Srivastava, N. Perkas, A.
Gedanken et al., J. Phys. Chem. B,
2002, 106, 1878.
114 Y. Q. Wang, S. G. Chen, X. H. Tang
et al., J. Mater. Chem., 2001, 11, 521.
115 Rohit Kumar Rana, Y. Mastai, A.
Gedanken, Adv. Mater., 2002, 14,
1414.
116 S. S. Kim, W. Zhang, T. J.
Pinnavaia, Science, 1998, 282, 1302.
117 P. Jeevanandam, Y. Koltypin, A.
Gedanken, Mater. Sci. Eng. B, 2002,
90, 125.
118 X. Y. Liang, Z. Ma, Z. C. Bai et al.,
Acta Phys. Chim. Sin., 2002, 18, 567.
119 I. Shames, E. Rozenberg, G.
Gorodetsky et al., Appl. Phys., 2002,
91, 7929.
120 P. Jeevanandam, Y. Koltypin, A.
Gedanken, Nano Lett., 2001, 1, 263.
121 X. Xia, L. L. Shen, Z. P. Guo et al., J.
Nanosci. Nanotechnol., 2002, 2, 45.
122 P. Jeevanandam, Y. Koltypin, A.
Gedanken et al., J. Mater. Chem.,
2002, 10, 511.
123 Y. C. Zhu, H. L. Li, Y. Koltypin, A.
Gedanken, J. Mater. Chem., 2002, 12,
729.
124 J. C. Yu, J. G. Yu, W. K. Ho et al.,
Chem. Commun., 2001, 1942.
125 W. P. Huang, X. H. Tang, Y. Q.
Wang et al., Chem. Commun., 2000,
415.
126 L. Guo, X. K. Wang, Z. M. Lin et al.,
Chem. J. Chin. Univ., 2002, 23, 1592.
127 Y. C. Zhu, H. L. Koltypin, Y. R.
Hacohen et al., Chem. Commun.,
2001, 24, 2616.
128 N. Sukpirom, M. M. Lerner, Mater.
Sci. Eng. A, 2002, 333, 218.
129 K. V. P. M. Shafi, A. Ulman, X. Z.
Yan et al., Langmuir, 2001, 17, 1726.
130 C. S. S. R. Kumar, H. Modrow, J. H.
Hormes, Part Part Syst. Char., 2002,
19, 336.
131 H. Wang, J. J. Zhu, J. M. Zhu et al.,
Phys. Chem. Chem. Phys., 2002, 4, 3794.
132 L. X. Yin, Y. Q. Wang, G. S. Pang et
al., J. Colloid Interface Sci., 2002, 246,
78.
133 L. X. Yin, Y. Q. Wang, G. S. Pang et
al., J. Colloid Interface Sci., 2002, 246,
78.
134 E. V. Kumar, Y. Mastai, A.
Gedanken, Chem. Mater., 2002, 12,
3892.
135 Yu. Koltypin, S. I. Nikitenko, A.
Gedanken, J. Mater. Chem., 2002, 12,
1107.
136 R. V. Kumar, Y. Diamant, A.
Gedanken, Chem. Mater., 2000, 12,
2301.
137 Yu. Koltypin, X. Cao, R. Prozorov et
al., J. Mater. Chem., 1997, 7, 2453.
138 T. H. Hyeon, M. M. Fang, K. S.
Suslick, J. Am. Chem. Soc., 1996, 118,
5492.
139 S. I. Nikitenko, P. Moisy, I. A.
Tcharushnikova et al., Ultrason.
Sonochem., 2000, 7, 177.
140 J. Lu, Y. Xie, X. C. Jiang, W. He et
al., J. Mater. Chem., 2001, 11, 3281.
141 H. L. Li, Y. C. Zhu, O. Palchik et al.,
Inorg. Chem., 2002, 41, 637.
142 R. Katoh, Y. Tasaka, E. Sekreta et
al., Ultrason. Sonochem., 1999, 6, 185.
143 R. G. Compton, J. C. Eklund, F.
Marken, Electronanalysis, 1997, 9,
509.
144 G. Hodes, Y. Mastai, Electrodepostion
of Nanocrystalline Semiconductor Materials, in Encyclopedia on Electrochemistry,
Vol. 6: Semiconductor Electrodes and
Photoelectrochemistry, ed. S. Licht,
Wiley-VCH, Weinheim, 2001, p. 173.
145 J. Reisse, H. Francois, J. Vandercammen et al., Electrochim. Acta,
1994, 39, 37.
146 A. Durant, J. L. Delplancke, R.
Winand et al., Tetrahedron Lett., 1995,
36, 4257.
147 J. Reisse, T. Caulier, C.
Deckerkheer et al., Ultrason.
Sonochem., 1996, 3, S147.
References 167
al., Mater. Res. Bull., 2001, 36, 335.
107 W. Chen, W. P. Cai, L. Zhang et al.,
J. Colloid Interface Sci., 2001, 238, 291.
108 W. Chen, W. P. Cai, Z. X. Chen et
al., Ultrason. Sonochem., 2001, 8, 335.
109 W. Chen, W. P. Cai, Y. Lei et al.,
Mater. Lett., 2001, 50, 53.
110 J. C. Yu, L. Z. Zhang, J. G. Yu, New
J. Chem., 2002, 26, 416.
111 J. C. Yu, L. Z. Zhang, J. G. Yu, Chem.
Mater., 2002, 14, 4647.
112 D. N. Srivastava, S. Chappel, O.
Palchik et al., Langmuir, 2002, 18, 4160.
113 D. N. Srivastava, N. Perkas, A.
Gedanken et al., J. Phys. Chem. B,
2002, 106, 1878.
114 Y. Q. Wang, S. G. Chen, X. H. Tang
et al., J. Mater. Chem., 2001, 11, 521.
115 Rohit Kumar Rana, Y. Mastai, A.
Gedanken, Adv. Mater., 2002, 14,
1414.
116 S. S. Kim, W. Zhang, T. J.
Pinnavaia, Science, 1998, 282, 1302.
117 P. Jeevanandam, Y. Koltypin, A.
Gedanken, Mater. Sci. Eng. B, 2002,
90, 125.
118 X. Y. Liang, Z. Ma, Z. C. Bai et al.,
Acta Phys. Chim. Sin., 2002, 18, 567.
119 I. Shames, E. Rozenberg, G.
Gorodetsky et al., Appl. Phys., 2002,
91, 7929.
120 P. Jeevanandam, Y. Koltypin, A.
Gedanken, Nano Lett., 2001, 1, 263.
121 X. Xia, L. L. Shen, Z. P. Guo et al., J.
Nanosci. Nanotechnol., 2002, 2, 45.
122 P. Jeevanandam, Y. Koltypin, A.
Gedanken et al., J. Mater. Chem.,
2002, 10, 511.
123 Y. C. Zhu, H. L. Li, Y. Koltypin, A.
Gedanken, J. Mater. Chem., 2002, 12,
729.
124 J. C. Yu, J. G. Yu, W. K. Ho et al.,
Chem. Commun., 2001, 1942.
125 W. P. Huang, X. H. Tang, Y. Q.
Wang et al., Chem. Commun., 2000,
415.
126 L. Guo, X. K. Wang, Z. M. Lin et al.,
Chem. J. Chin. Univ., 2002, 23, 1592.
127 Y. C. Zhu, H. L. Koltypin, Y. R.
Hacohen et al., Chem. Commun.,
2001, 24, 2616.
128 N. Sukpirom, M. M. Lerner, Mater.
Sci. Eng. A, 2002, 333, 218.
129 K. V. P. M. Shafi, A. Ulman, X. Z.
Yan et al., Langmuir, 2001, 17, 1726.
130 C. S. S. R. Kumar, H. Modrow, J. H.
Hormes, Part Part Syst. Char., 2002,
19, 336.
131 H. Wang, J. J. Zhu, J. M. Zhu et al.,
Phys. Chem. Chem. Phys., 2002, 4, 3794.
132 L. X. Yin, Y. Q. Wang, G. S. Pang et
al., J. Colloid Interface Sci., 2002, 246,
78.
133 L. X. Yin, Y. Q. Wang, G. S. Pang et
al., J. Colloid Interface Sci., 2002, 246,
78.
134 E. V. Kumar, Y. Mastai, A.
Gedanken, Chem. Mater., 2002, 12,
3892.
135 Yu. Koltypin, S. I. Nikitenko, A.
Gedanken, J. Mater. Chem., 2002, 12,
1107.
136 R. V. Kumar, Y. Diamant, A.
Gedanken, Chem. Mater., 2000, 12,
2301.
137 Yu. Koltypin, X. Cao, R. Prozorov et
al., J. Mater. Chem., 1997, 7, 2453.
138 T. H. Hyeon, M. M. Fang, K. S.
Suslick, J. Am. Chem. Soc., 1996, 118,
5492.
139 S. I. Nikitenko, P. Moisy, I. A.
Tcharushnikova et al., Ultrason.
Sonochem., 2000, 7, 177.
140 J. Lu, Y. Xie, X. C. Jiang, W. He et
al., J. Mater. Chem., 2001, 11, 3281.
141 H. L. Li, Y. C. Zhu, O. Palchik et al.,
Inorg. Chem., 2002, 41, 637.
142 R. Katoh, Y. Tasaka, E. Sekreta et
al., Ultrason. Sonochem., 1999, 6, 185.
143 R. G. Compton, J. C. Eklund, F.
Marken, Electronanalysis, 1997, 9,
509.
144 G. Hodes, Y. Mastai, Electrodepostion
of Nanocrystalline Semiconductor Materials, in Encyclopedia on Electrochemistry,
Vol. 6: Semiconductor Electrodes and
Photoelectrochemistry, ed. S. Licht,
Wiley-VCH, Weinheim, 2001, p. 173.
145 J. Reisse, H. Francois, J. Vandercammen et al., Electrochim. Acta,
1994, 39, 37.
146 A. Durant, J. L. Delplancke, R.
Winand et al., Tetrahedron Lett., 1995,
36, 4257.
147 J. Reisse, T. Caulier, C.
Deckerkheer et al., Ultrason.
Sonochem., 1996, 3, S147.
References 167