xiv
Contents
9.3.2 Thermal Scanning Studies of
57 Co-doped-Fe
Irradiated by Neutrons and Electrons at Low
Temperature . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 462
9.4 In-Situ Observations of Elementary Jump Processes in Iron
and Silicon . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 467
9.4.1 High-Temperature UHV-Furnace and Encapsulation
Techniques . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 469
9.4.2 In-Beam Technique Using Coulomb Excitation
and Recoil-Implantation . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 472
9.4.3 In-Beam Technique Using
56 Fe (d, p)
57m Fe Nuclear
Reaction . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 477
9.4.4 On-Line Implantation of
57 Mn/
57 Fe into Si Using
Projectile Fragment Separator . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 482
9.5 Mössbauer Spectroscopic Camera . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 485
9.5.1 Mapping Technique for Mössbauer Spectroscopic
Microscope (MSM) . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 486
9.5.2 MSM Mappings and Complemental Techniques
Installed in Our Set-Up . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 492
9.5.3 MSM Image Data Processing to Deduce
the Concentration Distributions . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 497
9.5.4 Imaging Technique Using sCMOS-Camera . . . . . . . . . . . . . 499
9.6 Diffusion and Segregation Studies by Mössbauer
Spectroscopic Camera . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 500
9.6.1 Fe Impurity Diffusion in Single-Crystalline Si Wafer
[87] . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 500
9.6.2 Fe Impurity Diffusion in Multi-crystalline Si Wafer
[90] . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 504
9.6.3 Carbon Diffusion in Fe Steel . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 508
9.7 Summary . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 510
References . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 511
Index . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 517
Contents
9.3.2 Thermal Scanning Studies of
57 Co-doped-Fe
Irradiated by Neutrons and Electrons at Low
Temperature . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 462
9.4 In-Situ Observations of Elementary Jump Processes in Iron
and Silicon . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 467
9.4.1 High-Temperature UHV-Furnace and Encapsulation
Techniques . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 469
9.4.2 In-Beam Technique Using Coulomb Excitation
and Recoil-Implantation . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 472
9.4.3 In-Beam Technique Using
56 Fe (d, p)
57m Fe Nuclear
Reaction . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 477
9.4.4 On-Line Implantation of
57 Mn/
57 Fe into Si Using
Projectile Fragment Separator . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 482
9.5 Mössbauer Spectroscopic Camera . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 485
9.5.1 Mapping Technique for Mössbauer Spectroscopic
Microscope (MSM) . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 486
9.5.2 MSM Mappings and Complemental Techniques
Installed in Our Set-Up . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 492
9.5.3 MSM Image Data Processing to Deduce
the Concentration Distributions . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 497
9.5.4 Imaging Technique Using sCMOS-Camera . . . . . . . . . . . . . 499
9.6 Diffusion and Segregation Studies by Mössbauer
Spectroscopic Camera . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 500
9.6.1 Fe Impurity Diffusion in Single-Crystalline Si Wafer
[87] . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 500
9.6.2 Fe Impurity Diffusion in Multi-crystalline Si Wafer
[90] . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 504
9.6.3 Carbon Diffusion in Fe Steel . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 508
9.7 Summary . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 510
References . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 511
Index . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 517