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Analyse et technologie des surfaces
k c
facteur de matrice
l
nombre quantique azimutal
l e
longueur caractéristique d’une
couche
l 0
longueur d’un tracé
l 1 , l 2
épaisseur d’une couche
l film
épaisseur d’une couche
L
distance échantillon-détecteur
(spectromètre ToF-SIMS)

extension moyenne de la pièce

distance de libre parcours moyen des
molécules du gaz i
m
masse
M
masse de l’élément
m min
masse minimale détectable dans un
volume d’analyse
M
vecteur de champ magnétique de la
lumière (radiation
électromagnétique)
m 1
masse de la particule incidente
M 1
masse des atomes de la cible
m 2
masse des atomes constituant la
matrice
M 2
masse des atomes du gaz pulvérisant
m s
masse de la poussière
m i
masse de la matière i dans l’enceinte
M i
masse molaire de la matière i
M σ
masse déposée en kg/m 2
m ev
masse de l’atome évaporé
M g, d
élément de matrice
n'
nombre de monocouches N arrivant
à la surface d’un cm 2 en une seconde
(l’unité de n est exprimée en
monocouches/cm 2 · s)
n
coefficient optique de réfraction
n
nombre de degrés de liberté de
l’atome
n 0
coefficient de diffraction de la
lumière incidente
n cf
coefficient de diffraction complexe
(= n – ik)
N min
nombre minimal d’atomes détectables
N
nombre d’électrons