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Analyse et technologie des surfaces
D'
dose ionique [ions/aire]
D(E)
facteur tenant compte de l’efficacité
du multiplicateur des électrons
d p
diamètre du faisceau primaire (AES)
E
module d’élasticité [Pa]
E
énergie dissipée dans le contact [W]
E'
module d’élasticité équivalent
[Pa –1 ]
E
vecteur de champ électrique
E A
affinité d’électrons
E cin
énergie cinétique
E Fermi
énergie de Fermi
E ion
énergie primaire des ions
E 0
chaleur de sublimation du matériau
pulvérisé
I e
courant d’émission d’électrons
I i
courant dû au flux des ions de
l’espèce pulvérisante i
I j
courant dû au flux des ions de
l’espèce j non pulvérisante
E F
effusivité [J/m 2 Ks 1/2 ]
E L
énergie de liaison
F N
force normale appliquée au contact [N]
E p
énergie cinétique de l’électron
primaire
E pass
énergie de passage
E V
énergie du niveau de valence
E X , E Y
niveaux d’énergie X, Y, ...
E XYZ
énergie cinétique d’un pic Auger
pour une transition X-Y-Z, i.e. KLL,
LMM ou MNN
E W
énergie d’ionisation du niveau de
cœur
f A
abondance isotopique de l’élément A
f M (U)
polynôme de degré 1-3 en fonction
de la matrice M et de la tension U du
plasma (SDL et GDOES)
δT/δn
gradient de température normale à la
surface
F T
force tangentielle [N]
F d
force d’entraînement exercée sur la
poussière (force aérodynamique)
F g
force de gravitation exercée sur la
poussière
1
E'
---- -
1 ν 1
–
E 1
-------------1 ν 2
–
E 2
-------------+
=