Revêtements à partir d’une phase gazeuse (PVD/CVD)
273
• Cluster tools
Des enceintes adaptées aux différentes étapes sont regroupées autour d’une station
de commutation. Ce type d’équipement peut aussi être utilisé pour regrouper différents procédés. Il existe en monopièce et avec table de chargement: plaquettes de
silicium pour la microélectronique (fig. 15.17), pièces d’usure.
15.10 APPLICATIONS
Une des raisons importantes de la popularité grandissante des dépôts à partir
d’une phase vapeur est leur capacité de synthétiser des matériaux qu’on ne peut pas
synthétiser autrement. Il s’agit des phases qui nécessiteraient des trempes impossibles ou une suppression de précipitations qui ne peut être réalisée dans des procédés
de synthèse employant la diffusion.
Dans un dépôt à partir d’une phase gazeuse, on dépose atome après atome, et
selon le coefficient κ et la température qui déterminera le degré de diffusion superficielle ou de recristallisation on peut obtenir – en principe – toute nanostructure
désirée. Par exemple, tous les matériaux peuvent être déposés sous forme amorphe
par PVD.
Le tableau 15.5 résume les domaines d’applications des revêtements les plus
importants à partir de la phase vapeur à la fin du XX e siècle.
Fig. 15.17 Installation pour le traitement de plaquettes en silicium (par courtoisie de Balzers Process
Systems).
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• Cluster tools
Des enceintes adaptées aux différentes étapes sont regroupées autour d’une station
de commutation. Ce type d’équipement peut aussi être utilisé pour regrouper différents procédés. Il existe en monopièce et avec table de chargement: plaquettes de
silicium pour la microélectronique (fig. 15.17), pièces d’usure.
15.10 APPLICATIONS
Une des raisons importantes de la popularité grandissante des dépôts à partir
d’une phase vapeur est leur capacité de synthétiser des matériaux qu’on ne peut pas
synthétiser autrement. Il s’agit des phases qui nécessiteraient des trempes impossibles ou une suppression de précipitations qui ne peut être réalisée dans des procédés
de synthèse employant la diffusion.
Dans un dépôt à partir d’une phase gazeuse, on dépose atome après atome, et
selon le coefficient κ et la température qui déterminera le degré de diffusion superficielle ou de recristallisation on peut obtenir – en principe – toute nanostructure
désirée. Par exemple, tous les matériaux peuvent être déposés sous forme amorphe
par PVD.
Le tableau 15.5 résume les domaines d’applications des revêtements les plus
importants à partir de la phase vapeur à la fin du XX e siècle.
Fig. 15.17 Installation pour le traitement de plaquettes en silicium (par courtoisie de Balzers Process
Systems).