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Analyse et technologie des surfaces
Le procédé peut se résumer par la formule:
A Solide chaud
A Gaz
A Gaz
A Solide froid
L’absence d’une réaction chimique a donné la désignation: déposition par voie
physique.
Si on laisse à l’écart la pulvérisation cathodique pour le moment, on peut considérer le PVD comme le transport de la matière d’un corps chaud vers un corps froid.
Dans le CVD on utilise une ou plusieurs vapeurs (deux étant de loin la variante
dominante) qui réagissent entre elles sur une surface pour former un composé défini
et des produits de réaction volatils:
A Gaz + B Gaz + surface chaude
C Solide + D Gaz + ...
Dans le cas où on n’a qu’un gaz A au départ, on parlera plutôt de pyrolyse ou
de polymérisation, la différence des deux procédés résidant dans l’importance des
produits volatils qu’on a l’habitude d’associer au premier cas.
Nous rencontrons les procédés CVD et PVD dans notre environnement quotidien. Le PVD produit le givre sur nos fenêtres et le CVD le dépôt de suie dans nos
cheminées. On peut aussi utiliser le PVD pour embuer les lunettes en vue de nettoyage. Les premières applications industrielles du PVD datent des années 1930:
revêtement des disques de phonographes en shellack par des oxydes durcisseurs et
des étoffes par une couche métallique pour leur donner du lustre. La première application est toujours d’actualité avec une adaptation à l’évolution technique des
moyens utilisés pour l’enregistrement de la musique (fig. 15.14).
La délimitation entre les deux procédés doit être revue si on veut inclure les
procédés suivants. Le PVD réactif correspond à la suite:
A Solide chaud
A Gaz
A Gaz + B Gaz
C Solide froid (+ D Gaz )
Une analyse plus détaillée des procédés rend illusoire l’utilisation de signes
distinctifs simples.
Dans la plupart des cas on travaillera sous des conditions où la vapeur A réagira avec le gaz B adsorbé à la surface (en PVD aussi bien qu’en CVD).
Mais il existe des cas où la réaction du gaz B se produira aussi, et même surtout, à
la surface de l’évaporateur. Cette réaction est suivie d’une sublimation ou d’une pulvérisation du produit C qui après son passage de transport vers les substrats y condense.
Mais en général il n’y a pas d’ambiguïté: les procédés CVD produisent toujours une émission de produits de réaction. Les procédés PVD utilisent toujours une
mise en vapeur d’un des réactifs dans le réacteur.
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Analyse et technologie des surfaces
Le procédé peut se résumer par la formule:
A Solide chaud
A Gaz
A Gaz
A Solide froid
L’absence d’une réaction chimique a donné la désignation: déposition par voie
physique.
Si on laisse à l’écart la pulvérisation cathodique pour le moment, on peut considérer le PVD comme le transport de la matière d’un corps chaud vers un corps froid.
Dans le CVD on utilise une ou plusieurs vapeurs (deux étant de loin la variante
dominante) qui réagissent entre elles sur une surface pour former un composé défini
et des produits de réaction volatils:
A Gaz + B Gaz + surface chaude
C Solide + D Gaz + ...
Dans le cas où on n’a qu’un gaz A au départ, on parlera plutôt de pyrolyse ou
de polymérisation, la différence des deux procédés résidant dans l’importance des
produits volatils qu’on a l’habitude d’associer au premier cas.
Nous rencontrons les procédés CVD et PVD dans notre environnement quotidien. Le PVD produit le givre sur nos fenêtres et le CVD le dépôt de suie dans nos
cheminées. On peut aussi utiliser le PVD pour embuer les lunettes en vue de nettoyage. Les premières applications industrielles du PVD datent des années 1930:
revêtement des disques de phonographes en shellack par des oxydes durcisseurs et
des étoffes par une couche métallique pour leur donner du lustre. La première application est toujours d’actualité avec une adaptation à l’évolution technique des
moyens utilisés pour l’enregistrement de la musique (fig. 15.14).
La délimitation entre les deux procédés doit être revue si on veut inclure les
procédés suivants. Le PVD réactif correspond à la suite:
A Solide chaud
A Gaz
A Gaz + B Gaz
C Solide froid (+ D Gaz )
Une analyse plus détaillée des procédés rend illusoire l’utilisation de signes
distinctifs simples.
Dans la plupart des cas on travaillera sous des conditions où la vapeur A réagira avec le gaz B adsorbé à la surface (en PVD aussi bien qu’en CVD).
Mais il existe des cas où la réaction du gaz B se produira aussi, et même surtout, à
la surface de l’évaporateur. Cette réaction est suivie d’une sublimation ou d’une pulvérisation du produit C qui après son passage de transport vers les substrats y condense.
Mais en général il n’y a pas d’ambiguïté: les procédés CVD produisent toujours une émission de produits de réaction. Les procédés PVD utilisent toujours une
mise en vapeur d’un des réactifs dans le réacteur.
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